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一个博士同学感觉写论文困难(科技论文投稿格(2)
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摘要:[7] French, W. Between Silences: A Voice from China[N]. Atlantic Weekly, 1987-8-15(33). 4.论文集 【格式】[序号]作者.篇名[C].出版地:出版者,出版年份:起始页码. 【举例】
[7] French, W. Between Silences: A Voice from China[N]. Atlantic Weekly, 1987-8-15(33).
4.论文集
【格式】[序号]作者.篇名[C].出版地:出版者,出版年份:起始页码.
【举例】
[8] 伍蠡甫.西方文论选[C]. 上海:上海译文出版社,1979:12-17.
[9] Spivak,G. “Can the Subaltern Speak?”[A]. In C.Nelson & L. Grossberg(eds.). Victory in Limbo: Imigism [C]. Urbana: University of Illinois Press, 1988, pp.271-313.
[10] Almarza, G.G. Student foreign language teacher’s knowledge growth [A]. In D.Freeman and J.C.Richards (eds.). Teacher Learning in Language Teaching [C]. New York: Cambridge University Press. 1996. pp.50-78.
5.学位论文
【格式】[序号]作者.篇名[D].出版地:保存者,出版年份:起始页码.
【举例】
[11] 张筑生.微分半动力系统的不变集[D].北京:北京大学数学系数学研究所, 1983:1-7.
6.研究报告
【格式】[序号]作者.篇名[R].出版地:出版者,出版年份:起始页码.
【举例】
[12] 冯西桥.核反应堆压力管道与压力容器的LBB分析[R].北京:清华大学核能技术设计研究院, 1997:9-10.
7.条例
【格式】[序号]颁布单位.条例名称.发布日期
【举例】[15] 科学技术委员会.科学技术期刊管理办法[Z].1991—06—05
8.译著
【格式】[序号]原著作者. 书名[M].译者,译.出版地:出版社,出版年份:起止页码.
9、专利
【格式】[序号]专利所有者.专利题名[P].专利国别:专利号,出版日期.
【举例】[10] 姜锡洲.一种温热外敷药制备方案[P].专利:,1989-07-26.
10、电子文献
【格式】[序号]主要责任者.电子文献题名[电子文献及载体类型标识].电子文献的出处或可获得地址,发表或更新日期/引用日期(任选).
【举例】[11] 王明亮.关于学术期刊标准化数据库系统工程的进展[EB/OL]. http://www.cajcd.edu.cn/pub/wml.txt/-2.html,1998-08-16/1998-10-04.
11、各种未定义类型的文献
【格式】[序号] 主要责任者.文献题名[Z]. 出版地:出版者,出版年.
三、注释
注释是对论文正文中某一特定内容的进一步解释或补充说明。注释前面用圈码①、②、③等标识。
四、参考文献
参考文献与文中注(王小龙,2005)对应。标号在标点符号内。多个都需要标注出来,而不是1-6等等 ,并列写出来。
造出ASML那种光刻机?
题主所指ASML光刻机、应该是指制程在7nm以下芯片ASML的EUV光刻机。
这种光刻机、是制程高端芯片的核心设备,由几万个零部件组成,集聚了许多高科技顶尖技术。有人形容光刻机是“半导体工业皇冠上的明珠”。而当前5G移动终端中的关键芯片,只有ASML的EUV光刻机能制程7nm甚至5nm的高端芯片。
那我们需要多久才能制造出这种高科技水平的光刻机呢?
一、我们的光刻机技术有一定储备,起步不算太晚。但因选择路径方向问题起了个大早、却没能赶上晚集。
我国早在1956年就将半导体技术列为当时国家新技术的紧急措施,比日本还早二年。並在1958年拉出了第一根硅单晶,即今天的硅晶圆。1980年,清华大学研制出第四代分布式投影光刻机、精度高达3微米接近国际主流水平,仅次于美国。
而到了今天,用微电子所刘明院士的话说:国内的光刻机技术与国外技术差距有15到20年。本来我们可以在光刻机技术上与ASML一争雄长,但我们放弃了。导致现在每年80/%的芯片靠进口,2019年超过了二万亿、出了大钱还要看人脸色。
二、需多久才能造出媲美ASML的EUV光刻机。
在高端芯片生产上我们并不弱。如北斗三号导航系统芯片、超级计算机、载人航天的嫦娥四号、歼20高性能芯片等等都是国产自主、顶级领先的。这些技术和产品、美国是不可能卖给我们的。
所以,在光刻机制造芯片领域我们不是整体落后、有一定技术储备和设备基础。
科技随着市场走,从商业化考虑的是性能和成本。芯片的投入比是市场价的20/%,不是纯利润的20/%。如高通的40/%利润在,没有足够的利润支撑进一步科技投入,光刻机技术进步将放缓、也给我们追赶顶端光刻机技术留下了宝贵时间。
美国禁售华为芯片,华为的确受困。但产品去美化、我国加大政策扶持力度、增加资金投入和研发光刻机进度,与先进水平的距离就会减小到7到8年。
还有,科学技术日新月异,光刻机研发技术和手段丰富多样化。以前造一架飞机图纸就要几卡车、造两弹一星用手摇计算机要很长时间,现在辅以其它设施一部电脑就够了,技术手段也更加先进和多样化。有众多卓越的科研人员、齐全的工业体系、集中力量办大事的传统,在3到5年时间内即可生产出媲美ASML的EUV光刻机。
文章来源:《科技创业月刊》 网址: http://www.kjcyyk.cn/zonghexinwen/2022/1221/1307.html
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